SGGG

Das Substrat des Ultraviolett-Galvanometer-Scanners besteht aus Silizium/K9/Quarz. Es wird hauptsächlich auf Laserscangeräte für Lasermarkierung und 3D-Druck usw. angewendet.

Ce:GAGG ist ein relativ neuer einzelner Szintillationskristall mit vielen Eigenschaften, wie z. B. hoher Lichtausbeute, hoher Dichte, guter Energieauflösung, guter Emissionspeakanpassung an den Siliziumsensor und niedriger intrinsischer Energieauflösung. Darüber hinaus ist das Material nicht hygroskopisch und nicht selbststrahlend. das weit verbreitet in der PET-, PEM-, SPECT-, CT-, Röntgen- und Y-Strahlenerkennung usw. verwendet wird.

Der CO2-Galvanometerscanner wird hauptsächlich im System des CO2-Laserscannens eingesetzt. Sein Substrat ist Silizium.

Die Ion Beam Figure Machine Tool arbeitet mit hoher Strahldichte, kleinem Strahldivergenzwinkel und großer Strahlgleichmäßigkeit. Ein hochenergetischer Ionenstrahl bombardiert die Oberfläche der Optik, um einen hochpräzisen Oberflächenfehler zu erzielen. Die Erzeugung hochenergetischer Ionen basiert auf hochreinem Inertgas, das durch eine Hohlkathode strömt. Die Elektrode erzeugt unter der Entladung des Leistungsmoduls eine Ionisierung und injiziert den Elektronenstrahl in den Hohlraum. Der Elektronenstrahl wird durch die gleichmäßige Elektronenplatte unter der Wirkung des elektrischen Feldes und des Magnetfelds der Anode gleichmäßig im Anodenbereich verteilt. Das elektrische Feld des Gitters. Der ausgegebene Ionenstrahl wird vom System gesteuert, um eine gleichmäßige und stabile Oberflächenentfernung optischer Elemente zu erreichen.

Die Maschine dient der Bearbeitung hochpräziser dünnschichtiger optischer Elemente.

Es bietet verschiedene Polier- und Schleifplatten mit unterschiedlichen Spezifikationen, die zum Polieren und Schleifen verschiedener Arten von optischen Gläsern, Quarz, Kristallen und anderen empfindlichen flachen und kugelförmigen Oberflächen verwendet werden können.