Festkörper-Q-geschalteter Pulslaser

Es bietet verschiedene Polier- und Schleifplatten mit unterschiedlichen Spezifikationen, die zum Polieren und Schleifen verschiedener Arten von optischen Gläsern, Quarz, Kristallen und anderen empfindlichen flachen und kugelförmigen Oberflächen verwendet werden können.

Lanthan-Gallium-Silikat-Kristalle (LGS) bieten breite Anwendungsmöglichkeiten bei der Herstellung von Oberflächenwellen- (SAW) und Volumenwellen- (BAW) Geräten und sind ein neuer Typ von piezoelektrischem Material. LGS-Kristalle können auch zur Herstellung elektrooptischer Q-Schalter verwendet werden. Geräte aus LGS-Kristallen weisen eine hohe thermische Stabilität auf.

SGGG-Kristall, nämlich mit CaMgZr dotierter Gadolinium-Gallium-Granat, ist ein ausgezeichnetes Substratmaterial für BiFe-Granat-Epitaxiefilme.

Mit Cer dotierter Lutetium-Aluminium-Granat (Ce:LuAG) ist ein bewährter Szintillator und verfügt über viele attraktive Eigenschaften, wie schnelles Abklingen (80 ns), hohe Lichtausbeute und Emissionsspitzen bei 510 nm, die gut mit der Empfindlichkeit kommerzieller Si-CCD-Detektoren übereinstimmen sowie gute mechanische und chemische Stabilität. Ce:LuAG ist auch ein sehr geeigneter Kristall für Bildbildschirme, LED-Beleuchtung und Laserbeleuchtung.

Die Ion Beam Figure Machine Tool arbeitet mit hoher Strahldichte, kleinem Strahldivergenzwinkel und großer Strahlgleichmäßigkeit. Ein hochenergetischer Ionenstrahl bombardiert die Oberfläche der Optik, um einen hochpräzisen Oberflächenfehler zu erzielen. Die Erzeugung hochenergetischer Ionen basiert auf hochreinem Inertgas, das durch eine Hohlkathode strömt. Die Elektrode erzeugt unter der Entladung des Leistungsmoduls eine Ionisierung und injiziert den Elektronenstrahl in den Hohlraum. Der Elektronenstrahl wird durch die gleichmäßige Elektronenplatte unter der Wirkung des elektrischen Feldes und des Magnetfelds der Anode gleichmäßig im Anodenbereich verteilt. Das elektrische Feld des Gitters. Der ausgegebene Ionenstrahl wird vom System gesteuert, um eine gleichmäßige und stabile Oberflächenentfernung optischer Elemente zu erreichen.