反射レンズ

コンピューター制御の光学サーフェシング研磨機は、ミニ産業用ロボットをベースにしており、スペースが少なく、柔軟性が高くなります。面誤差は、光学平面、球面、非球面を使用し、研磨主軸ツールによって計算されます。制御可能な影響関数を獲得し、精密な光学面を仕上げるために、研磨力コントローラをベースとしたフィッティング研磨ツール技術を開発しました。そして、High Mark は、革新的なプロセス技術とソフトウェアを使用して、ミクロンからナノメートルまでの完全なプロセス ソリューションを提供します。

反射レンズはK9/クォーツ製です。

この干渉計は、フィゾー干渉と機械的位相シフトの原理に基づいており、自社開発の超色消しビーム拡大およびイメージング システムを備えており、600 ～ 1600 nm の範囲の動作波長を持つレーザー光源のプラグ アンド プレイをサポートしています。

ファラデーアイソレータとしても知られる光アイソレータは、入力偏光子、磁石付き回転子、出力偏光子で構成されます。これは、光の一方向の通過を許可し、反対方向の通過を防止する受動デバイスであり、光は一方向にのみ送信され、後方反射光は十分に分離されます。

LiTaO3 は、優れた圧電効果、強誘電効果、音響光学効果、電気光学効果を備えた重要な多機能結晶材料です。 LiTaO3 は、多くのデバイスや機器、特に電気光学デバイス、赤外線検出器、表面弾性波デバイスで使用されて成功しています。

チョクラルスキー法で成長
直径：最大485mm
ドーパントB（ボルム）
導電率の種類: P
方向: 100
抵抗率: 最大 10000
ノッチあり ノッチ位置: 110
ノッチサイズ: 2,3 mm
ノッチの形状：V
ウェーハの厚さ: 775±25 ミクロン マーキングの種類: レーザー マーキング位置 裏面 エッジプロファイル: SEMI T/4 S1/S2 研磨 - あり
ウェーハ全体の厚さの合計変化 (TTV)、ミクロン < 3
WARP: <40 ミクロン 表面上の粒子の数が多い
0.12ミクロン未満: <40
アルミニウムの表面含有量、E10AT/CM2: 5