Dual laser sources machine

GGG(가돌리늄 갈륨 가넷)는 물리적, 기계적, 화학적 안정성이 뛰어나 자기광학박막용 특수 기판입니다.

Fizeau 간섭 및 기계적 위상 이동 원리를 기반으로 하고 자체 개발한 초색성 빔 확장 및 이미징 시스템을 갖춘 간섭계는 600 - 1600nm 범위의 작동 파장을 사용하여 레이저 소스의 플러그 앤 플레이를 지원합니다.

Ce:GAGG는 높은 광 수율, 높은 밀도, 우수한 에너지 분해능, 실리콘 센서와 일치하는 우수한 방출 피크 및 낮은 고유 에너지 분해능과 같은 많은 특성을 가진 비교적 새로운 단일 섬광 결정입니다. 또한 이 소재는 흡습성이 없고 자체 방사성이 없습니다. PET, PEM, SPECT, CT, X 및 Y 선 검출 등에 널리 사용됩니다.

광통신용 전기광학 소재로서 파라메트릭 발진기, 이중 주파수, 음향 및 광학 장치, 광 변조기 등에 널리 사용됩니다. MgO의 도핑은 결정의 손상 임계값을 효과적으로 향상시킬 수 있습니다.

패러데이 회전기는 자기광학물질의 비가역성을 기반으로 한다. 즉, 동일한 파장의 수직 입사광과 역입사광의 편광면을 빔 전파에 관계없이 동일한 방향, 동일한 각도로 회전시킬 수 있다. 방향. 입사빔의 편광면이 45도 회전하는 패러데이 회전기를 서로 직교하는 한 쌍의 편광판 사이에 배치하여 광 아이솔레이터를 형성하면 순방향으로 전파되는 빔만 시스템을 통과하도록 허용하고 역방향으로 전파되는 빔은 차단합니다. 빔. 패러데이 회전자는 다단계 레이저 증폭기, 광 파라 메트릭 발진기, 링 레이저, 에르븀 첨가 광섬유 증폭기, 시드 주입 레이저, 광 스위치, 광 변조기와 같은 다양한 레이저 시스템에 널리 사용되는 광 아이솔레이터의 중요한 구성 요소입니다. 곧.

초크랄스키(Czochralski) 방법으로 재배
직경: 최대 485mm
도펀트 B(보룸)
전도성 유형: P
오리엔테이션: 100
저항력: 최대 10000
노치-예 노치 위치: 110
노치 크기: 2,3mm
노치의 모양: V
웨이퍼 두께: 775±25 마이크론 마킹 유형: 레이저 마킹 위치 뒷면 가장자리 프로필: SEMI T/4 S1/S2 연마- 예
웨이퍼 전체의 총 두께 변화(TTV), 미크론 < 3
워프: <40 미크론 표면의 입자 수가 더 많습니다.
0.12미크론 미만: <40
알루미늄 표면 함량, E10AT/CM2: 5

컴퓨터 제어 광학 표면 연마기 산업용 로봇을 기반으로 광학 평면, 구면 및 비구면 표면을 사용하여 연마 스핀들 도구를 사용하여 표면 오류를 파악합니다. 연마력 컨트롤러를 기반으로 한 피팅 연마 도구 기술은 제어 가능한 Influence Function을 얻고 정밀한 광학 표면을 마무리하기 위해 개발되었습니다. 그리고 High Mark는 혁신적인 공정 기술과 소프트웨어를 통해 마이크론에서 나노미터까지 전체 공정 솔루션을 제공할 것입니다.

SGGG 결정, 즉 Ca Mg Zr 도핑된 가돌리늄 갈륨 가넷은 BiFe 가넷 에피택셜 필름을 위한 뛰어난 기판 재료입니다.