고체 자외선 레이저

리튬 삼붕산염 LiB3O5(LBO) 결정은 널리 사용되는 주파수 배가 장치인 우수한 주파수 결정입니다. 결정은 우수한 광학 균일성, 넓은 침투 대역, 높은 정합 효율 및 레이저 손상 임계값을 갖습니다. LBO 결정은 BBO 결정보다 안정적인 화학적 특성, 높은 기계적 경도, 낮은 조해성 및 복굴절을 가지므로 위상 일치 스펙트럼 범위를 제한하는 데 도움이 됩니다.

Ion Beam Figure Machine Tool은 높은 빔 밀도, 작은 빔 발산 각도 및 큰 빔 균일성을 통해 작동합니다. 고에너지 이온 빔이 광학 장치 표면에 충격을 가해 초정밀 표면 오차를 달성합니다. 고에너지 이온의 생성은 중공 음극을 통과하는 고순도 불활성 가스를 기반으로 합니다. 파워 모듈의 방전에 의해 전극은 이온화를 발생시켜 캐비티 내부에 전자빔을 주입하고, 전자빔은 양극의 전기장과 자기장의 작용에 의해 전자 균일판을 통해 양극 영역에 균일하게 분포됩니다. 그리드의 전기장 출력 이온빔은 시스템에 의해 제어되어 광학 요소의 균일하고 안정적인 표면 제거를 달성합니다.

공간이 적고 유연성이 뛰어난 미니 산업용 로봇을 기반으로 하는 컴퓨터 제어 광학 표면 연마기입니다. 표면 오차는 광학 평면, 구면 및 비구면을 사용하여 연마 스핀들 도구로 계산됩니다. 연마력 컨트롤러를 기반으로 한 피팅 연마 도구 기술은 제어 가능한 Influence Function을 얻고 정밀한 광학 표면을 마무리하기 위해 개발되었습니다. 그리고 High Mark는 혁신적인 공정 기술과 소프트웨어를 통해 마이크론에서 나노미터까지 전체 공정 솔루션을 제공할 것입니다.

광통신용 전기광학 소재로서 파라메트릭 발진기, 이중 주파수, 음향 및 광학 장치, 광 변조기 등에 널리 사용됩니다. MgO의 도핑은 결정의 손상 임계값을 효과적으로 향상시킬 수 있습니다.

GGG(가돌리늄 갈륨 가넷)는 물리적, 기계적, 화학적 안정성이 뛰어나 자기광학박막용 특수 기판입니다.

Ce:GAGG는 높은 광 수율, 높은 밀도, 우수한 에너지 분해능, 실리콘 센서와 일치하는 우수한 방출 피크 및 낮은 고유 에너지 분해능과 같은 많은 특성을 가진 비교적 새로운 단일 섬광 결정입니다. 또한 이 소재는 흡습성이 없고 자체 방사성이 없습니다. PET, PEM, SPECT, CT, X 및 Y 선 검출 등에 널리 사용됩니다.

세륨 도핑된 루테튬 알루미늄 가넷(Ce:LuAG)은 잘 확립된 신틸레이터이며 빠른 감쇠(80ns), 높은 광 수율, 상업용 Si-CCD 검출기의 감도와 잘 일치하는 510nm의 방출 피크와 같은 많은 매력적인 특성을 가지고 있습니다. 기계적, 화학적 안정성도 우수합니다. Ce:LuAG는 또한 이미징 스크린, LED 조명 및 레이저 조명에 매우 적합한 결정입니다.