제품 설명
Ion Beam Figure Machine Tool은 높은 빔 밀도, 작은 빔 발산 각도 및 큰 빔 균일성을 통해 작동합니다. 고에너지 이온 빔이 광학 장치 표면에 충격을 가해 초정밀 표면 오차를 달성합니다. 고에너지 이온의 생성은 중공 음극을 통과하는 고순도 불활성 가스를 기반으로 합니다. 파워 모듈의 방전에 의해 전극은 이온화를 발생시켜 캐비티 내부에 전자빔을 주입하고, 전자빔은 양극의 전기장과 자기장의 작용에 의해 전자 균일판을 통해 양극 영역에 균일하게 분포됩니다. 그리드의 전기장 출력 이온빔은 시스템에 의해 제어되어 광학 요소의 균일하고 안정적인 표면 제거를 달성합니다.
주요 이점:
1. 98%보다 지속성이 뛰어난 초정밀 영향 기능.
2. FWHM의 가우스 영향 함수는 다양한 조리개에 대해 40mm ~ 0.1mm를 형성합니다.
3. 지속적인 영향 기능을 위한 더 많은 범위를 갖춘 고경사 광학의 모습.
기술적인 매개변수
크리스로 제공
